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DOE專用掩膜

DOE專用掩膜

DOE專用掩膜是海納光學設計的專門用于提高衍射光學元件輸出光斑質量的一種光學元件,其又被成為高級次衍射阻擋掩膜,高功率掩膜,電介質反射掩膜,英文名稱為High Power Masks或Precision aperture for high power laser。其結構是在玻璃基闆上鍍有一層很薄(~1μm)的圖案反射塗層,從而起到反射不需要的高衍射級次雜散光線的效果。

所屬品牌: 海納光學 Highlightoptics

應用類型:

産品型号:DM-010

負責人:林工
聯系電話:1369192671 電子郵箱:linzehao@welloptics.cn

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高品質DOE專用掩膜,可阻擋不需要的高衍射級次光學


高功率掩膜(DOE專用掩膜)——用于精密控制大功率激光的孔徑

高功率掩膜,英文名稱為High Power Masks,主要用于精密的控制大功率激光的孔徑,它的結構是在玻璃基闆上鍍有一層很薄(~1μm)的圖案反射塗層。

高功率掩膜的典型參數

外直徑

5 - 100 mm

孔的形狀

圓形、方形、 多孔徑,其他

孔徑尺寸

10 um - 60 mm

波長範圍

193 - 11000 nm

Transfer Region

Small; sharp edges

SNR

~500

Shape size

>5 um

 

高功率掩膜通常分為兩種不同類型的掩膜


一種是電介質反射掩膜

電介質反射掩模,英文名為Dielectric Reflective Mask,是在熔融石英的基底上,鍍一層由非常薄(〜1um)的反射塗層圖案。塗層部分反射入射光束,而未塗層部分透射光束。


電介質反射掩膜的特性:

針對單波長設計,高損傷阈值,低吸收率

反射部分,> 99%的高反射率

透明部分,> 95%的高透射率

很薄的掩膜層(~1um)

 

另一種是透射成像掩模

透射成像掩膜,英文名為Transmissive Imaging Mask,透射式掩模的特點是透射全部入射光,沒有任何阻擋,透射掩模使用衍射圖案以大角度漫射不需要的波段。

它的工作原理如下:

       中心有一個和反射式掩膜類似的透明區域,光線直接透過,周圍區域具有衍射圖案,使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦鏡後焦平面放置的小孔,就可以阻擋大部分漫射光,從而達到阻擋多餘激光的效果。


透射掩膜的特點:

不會有反射光的風險,導緻損壞光學系統

~100%傳輸效率

比反射式掩模更高的激光損傷阈值

價格實惠

 

高功率掩膜的應用領域:

縮減傳輸區域,設置一個很小的傳輸區域

控制激光衍射圖案的大小


高功率掩膜的型号規格:

型号

直徑 (mm)

孔徑尺寸(um)

孔徑形狀

材質

DM-017

85

50075

Square

熔融石英

DM-010

25.4

5680

Round

熔融石英

DM-004

25.4

1750

Square

熔融石英

DM-009

25.4

6200

Round

熔融石英

DM-019

25.4

300

Square

熔融石英

DM-007

25.4

10838

Round

熔融石英

DM-006

25.4

7000

Square

熔融石英

DM-005

25.4

3500

Square

熔融石英

DM-008

20

8428

Round

熔融石英

DM-016

11

5400

Round

熔融石英

DM-015

11

3000

Round

熔融石英

DM-014

11

4214.9

Round

熔融石英

DM-013

11

2408

Round

熔融石英

DM-012

11

3612

Round

熔融石英

DM-011

11

4817

Round

熔融石英

DM-003

11

165

Square

熔融石英

DM-002

11

65

Square

熔融石英

 

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